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两岸三地印艺学者齐聚香港 共商印艺学术与教育发展大计

更新日期:2009-03-02

2009年2月22日来自两岸三地的印艺学者教授,借香港印艺学会第十四届执委会典礼之春风,齐聚香港城市花园酒店,共商印艺未来发展大计,探讨两岸三地印印教育科研与人才培养合作的前景。国立台湾艺术大学谢颙丞教授、杭州电子科技大学王强教授、暨南大学吕新广教授、香港印艺学会主席杨伟文先生、名誉主席叶伟慈先生、执委林和安先生、李育才先生和马桂鸿先生一同出席了这次专题研讨会。会上大家共同探讨了印艺教育的发展方向,两岸三地印艺人才的需求,印艺学术刊物创建与发展的可行性以及资源共享和学者学生交流等问题,为未来两岸三地的合作打开了新思路和新途径。